Soluţie îmbunătăţită de proiectare a cipurilor de 65 şi 45 nmLDO

25 IULIE 2007

Mentor Graphics anunţă achiziţia companiei Sierra Design Automation (Santa Clara, California), important furnizor de soluţii de înaltă performanţă de plasare şi rutare pentru proiectarea circuitelor imprimate. Costul achiziţiei este de 90 de milioane USD, plătibili 50% în numerar şi 50% în acţiuni Mentor Graphics.
“Asociind capacitatea DFM (design-for-manufacturing) sofisticată a Mentor Graphics cu soluţia noastră de plasare şi rutare capabilă să gestioneze problemele de variabilitate ale procesului sau litografierii, clienţii noştri au posibilitatea să combine ciclul de dezvoltare rapid cu calitatea implantării obţinând un randament de producţie ridicat”, declară Pravin Madhani, preşedinte şi CEO al companiei Sierra Design Automation. “La 65 şi 45 de nanometri (nm), discontinuităţile de tipul variabilităţii parametrilor tehnologici, dimensiunea proiectului, consumul redus şi optimizarea în vederea producţiei cresc complexitatea procesului de proiectare fizică. Fuziunea cu Mentor ne permite să furnizăm o procedură optimă proiectare-fabricaţie, care răspunde tuturor acestor probleme de discontinuitate”.
Succesul obţinut de Mentor cu aplicaţia Calibre s-a datorat detectării unei discontinuităţi şi soluţionării acesteia. Astăzi, piaţa DFM se confruntă cu probleme similare”, explică Walden C. Rhines, CEO şi preşedinte al Mentor Graphics. “Cei mai exigenţi clienţi ai noştri ne-au solicitat o procedură de implementare fizică, capabilă să gestioneze zeci de seturi de parametri tehnologici (process corners) şi de modalităţi variate care să răspundă problemelor de fabricaţie pentru accelerarea intrării proiectelor în producţie şi eliminarea posibilelor erori. Experienţa celor două companii în aceste domenii ne-a condus în mod natural către colaborare. Achiziţia Sierra extinde superioritatea Mentor în domeniul DFM şi asigură integrarea necesară dintre proiectarea fizică şi verificarea finală, ameliorând astfel randamentul”.
Olympus-SoC, produsul fanion al Sierra, asigură tehnologii inovatoare pentru procesele de 65 şi 45 nm. El furnizează o nouă generaţie de sistem de plasare-rutare permiţând administrarea simultană pe un cip a variaţiilor procesului de litografiere, variaţiei parametrilor tehnologici şi a modurilor de funcţionare. Arhitectura de rutare de la Sierra stă la baza produsului Olympus-SoC. Ea conţine o analiză de timing care integrează variaţiile parametrilor tehnologici, un motor de optimizare şi de modelare litografică, concentrându-se pe efectele pe care le au tehnologiile OPC (optical proximity correction) şi RET (resolution enhancement technology) încă din faza iniţială a ciclului de proiectare. Această arhitectură permite, de asemenea, accelerarea ciclului de dezvoltare pentru regulile tehnologice complexe. Este capabilă să administreze simultan zeci de seturi de parametri tehnologici şi moduri de proiectare, garantând realizarea unui cip optimizat fără margini de protecţie inutile. Mentor Graphics va vinde în continuare produsele Sierra şi le va asigura asistenţă prin intermediul filialelor sale din întreaga lume.

Veda Consulting – www.veda.ro

Lasă un răspuns

Adresa ta de email nu va fi publicată. Câmpurile necesare sunt marcate *

  • Folosim datele dumneavoastră cu caracter personal NUMAI pentru a răspunde comentariilor/solicitărilor dumneavoastră.
  • Pentru a primi raspunsuri adecvate solicitărilor dumneavoastră, este posibil să transferăm adresa de email și numele dumneavoastră către autorul articolului.
  • Pentru mai multe informații privind politica noastră de confidențialitate și de prelucrare a datelor cu caracter personal, accesați link-ul Politica de prelucrare a datelor (GDPR) si Cookie-uri.
  • Dacă aveți întrebări sau nelămuriri cu privire la modul în care noi prelucrăm datele dumneavoastră cu caracter personal, puteți contacta responsabilul nostru cu protecția datelor la adresa de email: gdpr@esp2000.ro
  • Abonați-vă la newsletter-ul revistei noastre